黃光室是進行IC晶片微影成像術(shù)的區(qū)域，將光阻材料利用旋鍍法被覆在晶園上，而后再放置于曝光機下進行曝光，以使紫外線光源透

 

過光罩照射于光阻而得到感光圖像，最后再以藥劑進行顯影而得到實際圖像。


    早期曝光機的光源為全光譜光源，后演進到G-LINE（436 mm）光源，目前最為廣泛使用的為I-LINE（436mm）光源，對于

 

0.3ūm線寬以下的IC制程，則需采用深紫外線（deep UV）248mm光源，甚至X光或電子束，目前光源較采用高壓水銀（汞）弧燈，由

 

于其特性頻譜，所以須經(jīng)過濾光片以獲得所需的I－LINE(365mm)光線。