石英坩堝清洗設(shè)備

石英坩堝清洗設(shè)備簡(jiǎn)介：

石英坩堝清洗設(shè)備http://www.jd-clean.cn/products-detail.asp?cpid=133

1．石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。

2、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。

3．石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。

4．石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。

5．除HF外，普通稀無機(jī)酸可用作清洗液。國(guó)內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國(guó)內(nèi)坩堝生產(chǎn)大廠家生產(chǎn)的坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂由美國(guó)進(jìn)口和挪威高純石英砂兩種。也有小廠使用國(guó)產(chǎn)料其原料生產(chǎn)的石英坩堝對(duì)拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。

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