化妝品生產(chǎn)用水的要求 
    無(wú)機(jī)離子濃度  ?化妝品用水需去除水中的無(wú)機(jī)離子，達(dá)到純水要求，使含鹽量降至1mg/L以下，即電導(dǎo)率需降低至1~6μs/cm2。 
    微生物的污染 化妝品衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：一般化妝品細(xì)菌總數(shù)不得大于1000個(gè)／mL或1000個(gè)／g；眼部、口唇、口腔粘膜用化妝品及嬰兒和兒童用化妝品細(xì)菌總數(shù)不得大于500個(gè)／mL或500個(gè)／g，而糞大腸菌群、綠膿桿菌和金黃色葡萄球菌不得檢出 
    化妝品生產(chǎn)用水質(zhì)量要求: 
    水的電阻率與總含鹽量的關(guān)系 水純度 電阻率（MΩ?cm，25℃） 外來(lái)電解質(zhì)含量w（×10—6） 純水 約0.1 2~5 十分純水 約1.0 0.2~0.5 超純水 約10 0.01~0.02 理論純水 18.3 0.00 
    應(yīng)用工藝： 
    原水→原水增壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性碳過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→第一級(jí)反滲透→紫外線殺菌器→純水箱→用水點(diǎn)（推薦工藝電導(dǎo)率≤10μS/CM） 
    傳統(tǒng)工藝：
    原水→原水增壓泵→石英砂過(guò)濾器→活性碳過(guò)濾器→復(fù)床系統(tǒng)→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→純水箱→用水點(diǎn)（傳統(tǒng)工藝電導(dǎo)率≤10μS/CM） 
    化妝品生產(chǎn)用水工藝流程：
 ?    操作簡(jiǎn)單，管路簡(jiǎn)潔緊湊，占地面積小，多重水質(zhì)過(guò)濾處理。 
    主體材質(zhì)均選用不銹鋼材料。  ?
?    配有紫外線殺菌裝置、活性炭過(guò)濾器、流量顯示儀和水質(zhì)檢測(cè)裝置。 
    電滲析-復(fù)床式離子交換-混合床式離子交換-微濾純水系統(tǒng)。 
    應(yīng)用場(chǎng)合 
   ◆ 護(hù)膚品生產(chǎn)用純水 
   ◆ 洗發(fā)水生產(chǎn)用純水 
   ◆ 染發(fā)劑生產(chǎn)用純水
   ◆ 牙膏生產(chǎn)用純水
   ◆ 各種清洗液生產(chǎn)用水