詳細說明：

  化工及半導體制造業(yè)對水的凈化要求極高，用于清洗集成電路用水或化工用水，一般要求電阻率達到18兆歐。安吉爾實業(yè)有限公司生產(chǎn)的化工行業(yè)及電子行業(yè)專用高純水設備利用RO元件和EDI裝置，會同一些特殊的水處理方法，得到的高純水符合化工及半導體制造業(yè)用水的高要求。

電子工業(yè)用超純水概述半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。電子工業(yè)用超純水設備的工藝流程電子工業(yè)用超純水設備的工藝大致分成以下幾種：

1、電子工業(yè)用超純水設備采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

2、電子工業(yè)用超純水設備采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

3、電子工業(yè)用超純水設備采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸程窟^濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→目前電子工業(yè)用超純水設備制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進行不同組合搭配衍生而來。

現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面：

1、第一種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。

2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。

3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水最經(jīng)濟，最環(huán)保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。電子工業(yè)用超純水設備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成前期預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設備系統(tǒng)。水箱均設有液位控制系統(tǒng)、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。


電子行業(yè)高純水設備特點 

      為滿足用戶生產(chǎn)工藝用水需求，達到符合標準的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝設計上，源水（市政自來水），經(jīng)多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉型陽離子軟化器、精密過濾器等預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）裝置等。 系統(tǒng)中水箱均設有液位控制系統(tǒng)、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，由PLC控制系統(tǒng)完成包括阻垢劑計量泵、高壓泵、電動慢開門的順序啟動和停止；停運時反滲透裝置的自動低壓沖洗；運行過程中低壓壓力開關(guān)與系統(tǒng)的連鎖運行；各轉(zhuǎn)動設備的運行監(jiān)測和報警等。

濟南安吉爾公司生產(chǎn)的電子行業(yè)高純水除鹽裝置、超純水處理設備、反滲透脫鹽機組可滿足電子行業(yè)不同客戶對生產(chǎn)工藝用水的需求